产品分类

氮化硅TEM支持膜

氮化硅薄膜是超平坦、应力优化且洁净的载样平台，适用于TEM应用。氮化硅的特性使其能够成为坚固、耐化学腐蚀、无碳、低背景信号的TEM支持膜。它们是纳米颗粒成像、定量碳分析、支撑膜上化学实验、实时化学反应和晶体生长研究、薄膜研究、膜上细胞生长和多种显微镜研究技术等应用的理想选择。

所属分类：

电镜耗材及显微学用品

透射电镜耗材

制样工具器具及其它

咨询电话：

025-85432178 / 010-62908712

产品咨询

氮化硅TEM支持膜

Silicon nitride support films and membranes for EM

氮化硅薄膜是超平坦、应力优化且洁净的载样平台，适用于TEM应用。氮化硅的特性使其能够成为坚固、耐化学腐蚀、无碳、低背景信号的TEM支持膜。它们是纳米颗粒成像、定量碳分析、支撑膜上化学实验、实时化学反应和晶体生长研究、薄膜研究、膜上细胞生长和多种显微镜研究技术等应用的理想选择。氮化硅膜采取特别的计算方法和化学配方，针对每个窗口尺寸和膜厚度进行了应力优化。这些支持膜采用先进的MEMS技术制造，生产出无碎屑、清洁且高度平整的膜。

硅框架与标准3mm TEM载网样品座完全兼容。SiN膜在一个2.65 x 2.65mm的模具上生产，带有背面蚀刻的拐角，以适应TEM载网样品座中的Ø3mm开口。标准硅框架厚度为200µm，提供了一个易于操作且坚固的支撑框架。200µm厚度与几乎所有的标准TEM载网样品座兼容。对于特殊的TEM载网样品座，可以选用100µm厚度较薄的硅支撑框架。

氮化硅支撑膜的优点：

1）无定形、低背景、低散射

2）高耐酸、碱和溶剂

3）耐高温，高达1000°C

4）无碳，易清洁

5）无支撑遮挡，可视区域大

6）支持多种显微镜技术，如TEM、SEM、FIB、EDX、Auger、XPS和AFM/SPM

氮化硅支撑膜的特点：

1）可选厚度为10、20、30、50、100和200nm坚固氮化硅膜

2）与Ø3.05mm TEM载网样品座完全兼容

3）清洁、超平坦的氮化硅膜

4）优化膜应力以实现高强度和高平面度

5）可选200µm和100µm两种厚度的标准硅支撑框架

6）可选包装：采用标准TEM载网盒，10片/盒和25片/盒两种规格

氮化硅膜是通过在硅片上生长具有所需厚度的氮化硅薄膜制成的。长成之后，将窗口蚀刻到硅片背面，以完全去除硅直至SiN层。然后将硅片切割成2.65x2.65毫米的正方形，并对四个拐角进行背面蚀刻，以使这些独特的产品与标准的3.05毫米TEM载网尺寸兼容。

Specifications of the EM-Tec silicon nitride support films for EM

选用原则及注意事项：
1）对于高分辨率成像，应该使用更薄的膜，比如10/20/30nm。

2）对于膜或膜上的多循环处理，应使用更厚的膜：100或200nm，因为它们更坚固。

3）较小窗口比较大窗口提供更坚固的窗口。

4）窗口越小，膜破损的几率越低。

5）氮化硅膜不含任何碳；在使用前应进行清洁以去除表面吸附的碳氢化合物。（使用辉光放电或温和的等离子清洗）

6）不要用超声波清洁，因为SiN是脆弱的。

具有钢结构工程专业承包二级资质、建筑工程施工总承包贰级资质；公司主营产品包括重钢、轻钢、网架及檩条、彩钢板等钢结构产品；近年来，公司承接了国内外大型结构件、桥梁、车库、标准化厂房等具有较大影响力的一系列项目；产品远销白俄罗斯、赞比亚、印尼等国家，得到了一致好评。

关键词：氮化硅TEM支持膜