美国PIE 等离子清洁、刻蚀处理仪_美国PIE 等离子清洁、刻蚀处理仪

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美国PIE 等离子清洁、刻蚀处理仪

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美国PIE EM-KLEEN远程等离子清洁仪

用于SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系统的远程等离子清洁仪。远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洁仪可同时清洁真空系统和样品！

美国PIE_Tergeo等离子清洁仪

Tergeo系列台式全自动等离子清洁仪具有清洁、灰化、刻蚀等功能，可用来清洁纳米级样品，去除光刻胶，清洁晶圆和集成电路键合焊盘，进行煤和有机物的灰化，激活聚合物、金属和陶瓷表面官能团，获得表面亲水性，提高键合强度和可印刷性，促进医疗器械生物相容性。可集成浸入式和远程式两种等离子源，既可清洁电镜光阑和TEM样品杆，也可清洁石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳和TEM载网多孔碳膜等脆弱的精细样品。

多用途样品清洁及储存腔室

通过选配外部附件如：EM-KLEEN远程控制等离子源和/或TEM样品杆适配器，多用途腔室可配置成不同的应用。EM-KLEEN远程等离子体源可以采用空气、氧气或氢气产生氧和氢自由基，用于样品清洁和表面活化。如果腔室配备了TEM样品杆适配器，则可接受和清洁来自Thermo Fisher、JEOL和Hitachi的共六个TEM样品杆，然后它还可以用作样品杆真空储存站。当然，EM-KLEEN等离子源也可被取下并安装到SEM、FIB或XPS等真空腔室上

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