CCU-010 LV_SP-010磁控离子溅射镀膜仪，是电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被机械泵油污染。标配膜厚监测装置；主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间；在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选对样品进行等离子刻蚀处理，以增加薄膜的附着力或对膜层表面进行改性。

CCU-010 LV_CT-010精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量镀碳而设计。紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM/EDS等需要高质量碳膜应用的场合。

CCU-010 LV普通真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。它是一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可选进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。

CCU-010 HV系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部。标配FTM膜厚监测装置。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。

CCU-010 HV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理(可选项)。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动卷送碳源设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。

CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可选进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。