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美国PIE EM-KLEEN远程等离子清洁仪
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EM_KLEEN-s
SEMI
Principle_of_Remote_plasma_cleaning_
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EM kleen source and controller

美国PIE EM-KLEEN远程等离子清洁仪

用于SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系统的远程等离子清洁仪。远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洁仪可同时清洁真空系统和样品!
产品型号:
EM-KLEEN/SEMI-KLEEN quartz/SEMI-KLEEN sapphire
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EM_KLEEN-s
SEMI
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yc_ALD
em_zeiss
EM kleen source and controller
产品描述

远程等离子清洁仪

 

用于SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系统的远程等离子清洁仪。远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洁仪可同时清洁真空系统和样品!

 

远程等离子清洁仪系列具有三种型号:

1EM-KLEEN 一款智能设计、功能强大的下游等离子清洁仪

2SEMI-KLEEN quartz是为满足半导体行业的苛刻清洁要求而设计

解决方案

3SEMI-KLEEN sapphire用于半导体行业的去污清洁,且支持耐

腐蚀性气体等离子应用。

 

仪器特点:

 快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。

不需减速或关闭涡轮分子泵

 低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专用多级

气体过滤技术,SEMI-KLEEN能够满足用户苛刻的颗粒污染清除要求

 可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用

 特有的等离子强度传感器可实时监测等离子状态,用户对等离子状态一目了然

 基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器,无需手动调节针阀

 直观的触摸屏操作,可定义60条清洗程序方案

 拥有智能安全操作模式和专家控制模式;SmartScheduleTM定时装置,通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统

 低电磁干扰设计,安静的待机模式

 

推荐应用:

•  FE-SEMFIBTEM的原位样品清洁

•  适用于半导体设备,如CD-SEM, EBR, EBI, EUVL

•  高真空室清洁,去除碳氢化合物和氟碳污染物

•  减少特高真空(EHV)和特高真空(UHV)泵的停机时间

•  适用于XPSSIMSAES和原子探针的腔室和样品清洁

•  适用于ALD和其它半导体加工设备的腔室和样品清洁

PIE Scientific研发的SmartClean™ 技术结合了核研究

和半导体行业先进的等离子体放电技术。EM-KLEEN

SEMI-KLEEN等离子清洁仪比前几代等离子体清洁仪

先进得多。我们的等离子清洁仪可以在任何技术指标上

更胜一筹;此外,许多独特的功能只是在我们的仪器

产品上才拥有。

 

我们还提供其它系列样品清洁、样品杆清洁及存储等应

的仪器如您需要,请参考Tergeo系列、

Multipurpose ChamberTEM holder storage

 

 

 

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