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瑞士Safematic镀膜仪_电镜制样

Tousimis CPDs

加拿大Dragonfly

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Chronos系列基于Timepix3的超快探测系统

荷兰ASI新近推出的Chronos系列基于事件和数据驱动的混合像素高速探测器相机，采用Timepix3芯片技术，具备卓越的性能，包括1.56纳秒的时间分辨率，相当于帧基相机的600MHz。该系列相机具有极高的无噪音数据采集速度，每秒可捕获高达300亿次轰击，可实现原子晶格的特定状态大场读出、量子相关性、光子纠缠、大分子成像分析和闪烁体等研究用途。

瑞士Safematic CCU-010 LV_SP-010磁控离子溅射镀膜仪

CCU-010 LV_SP-010磁控离子溅射镀膜仪，是电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被机械泵油污染。标配膜厚监测装置；主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间；在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选对样品进行等离子刻蚀处理，以增加薄膜的附着力或对膜层表面进行改性。

瑞士Safematic CCU-010 LV_CT-010热蒸发镀碳仪

CCU-010 LV_CT-010精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量镀碳而设计。紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM/EDS等需要高质量碳膜应用的场合。

瑞士Safematic CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪

CCU-010 LV普通真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。它是一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可选进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。

瑞士Safematic CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪

CCU-010 HV系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部。标配FTM膜厚监测装置。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。

瑞士Safematic CCU-010 HV_CT-010高真空热蒸发镀碳仪

CCU-010 HV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理(可选项)。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动卷送碳源设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。

瑞士Safematic CCU-010 HV高真空离子溅射/镀碳一体化镀膜仪

CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可选进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预。主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间。

美国Tousimis_SAMDRI-PVT-3D超临界干燥仪

美国Tousimis超临界干燥仪广泛适用于生物样品，凝胶等具有微纳米3D结构的脆弱复杂样品，以及MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、半导体晶圆（最大样品尺寸8英寸，一次同时干燥5片）等材料类样品的临界点干燥。利用CO2临界点状态无液相表面张力引起样品皱缩变形的原理获取具有真实形貌的干燥样品，是含水或其它液体的细胞组织等生物样品、半导体等材料样品干燥制样的有效方法；具有操作简便、控制精确、结果可重复等特点。其中，经典的电镜制样设备SAMDRI®-PVT-3D型临界点干燥仪和屡获殊荣的Autosamdri®-931高级触摸屏全自动CPD等型号尤其令人瞩目。客户可基于不同的应用选择不同的型号。

美国Tousimis AUTOSAMDRI-931触摸屏全自动临界点干燥仪

美国Tousimis超临界干燥仪广泛适用于生物样品，凝胶等具有微纳米3D结构的脆弱复杂样品，以及MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、半导体晶圆（最大样品尺寸8英寸，一次同时干燥5片）等材料类样品的临界点干燥。利用CO2临界点状态无液相表面张力引起样品皱缩变形的原理获取具有真实形貌的干燥样品，是含水或其它液体的细胞组织等生物样品、半导体等材料样品干燥制样的有效方法；具有操作简便、控制精确、结果可重复等特点。Autosamdri-931高级触摸屏全自动CPD，具有独特的搅拌方式，加快置换的同时避免样品扰动，便于维护；采用“Stasis 软件”，在困难样品处理过程中可使液态 CO2完全置换乙醇，适用于凝胶和其它复杂样品的临界点干燥制备。

美国Tousimis C系列触摸屏全自动临界点干燥仪_晶圆专用CPD

美国Tousimis C系列触摸屏全自动临界点干燥仪 _晶圆专用CPD（清洁室版本）。C系列为立式（落地式）大型临界点干燥仪，可在超净间工作，有3个型号可选： 1）Autosamdri-934，用于不超过4"的晶圆超临界干燥 2）Automegasamdri-936，用于不超过6"的晶圆超临界干燥 3）Automegasamdri-938，用于不超过8"的晶圆超临界干燥

加拿大Dragonfly三维图像处理和分析软件

Comet Technologies Canada(原ORS)公司出品的Dragonfly软件能够将复杂的微结构快速转化为全面的研究结果，是当今最具挑战性的科学和工业2D/3D/4D成像研究的最佳定量分析平台，广泛应用于金属/合金/复合材料等材料科学、细胞/动植物（比如小鼠/昆虫/木材/根系/竹子）等生物和生命科学、石油地质等地球科学领域。

英国Deben 2kN原位拉伸台_SEM EBSD等应用，可选加热

Deben近期开发了一种新的2KN拉伸台，可选择加热至600°C的加热装置，专门用于装有EBSD探测器的扫描电镜内。该台有双样品夹具，允许样品在0°和70°下观察，并可配备温度范围高达600°C的可选的加热/冷却夹具。

英国Deben CT5000 5KN原位拉伸台(μXCT应用)

CT5000原位测试台用途广泛，适应性强，重量小于6.0kg，适用于安装在常见的中程μXCT系统，如Nikon XTH-225、蔡司/Xradia Versa和GE v|tome|x等

英国Deben 半导体制冷冷台

英国Deben EBIC扫描电镜电子束感生电流放大器及成像系统

美国JC Nabity电子束曝光系统(NPGS纳米图形发生器)

自上世纪八十年代成立以来，美国JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的电子束光刻装置的研制，其研发的纳米图形发生器系统（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS，又称电子束微影系统）技术在全球同类系统中属于翘楚之作，世界各地越来越多的用户包括大学、科研机构及政府实验室在使用NPGS进行EBL研究工作.

美国PIE_Tergeo等离子清洁仪

Tergeo系列台式全自动等离子清洁仪具有清洁、灰化、刻蚀等功能，可用来清洁纳米级样品，去除光刻胶，清洁晶圆和集成电路键合焊盘，进行煤和有机物的灰化，激活聚合物、金属和陶瓷表面官能团，获得表面亲水性，提高键合强度和可印刷性，促进医疗器械生物相容性。可集成浸入式和远程式两种等离子源，既可清洁电镜光阑和TEM样品杆，也可清洁石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳和TEM载网多孔碳膜等脆弱的精细样品。

荷兰ASI TPX3Cam系列纳秒光子时间戳高速探测器

荷兰ASI出品的TPX3Cam是一款用于光学光子时间戳的快速光学相机。它基于一种新型硅像素传感器，并结合了Timepix3 ASIC和读出芯片技术，适用于电子、离子或单光子等需要时间分辨成像的各种应用。TPX3Cam可以很容易地集成在桌上型研究装置中，也可以集成在同步加速器或自由电子激光环境中。TPX3Cam的应用包括飞行时间质谱中离子的空间和速度映射成像; 离子和电子的符合成像，以及其他时间分辨类型的成像光谱。增强版TPX3Cam可以是单光子敏感的。在这种配置下，相机与现成的图像增强器结合使用。应用包括宽视场时间相关单光子计数(TCSPC)成像，磷光寿命成像和任何需要时间分辨单光子成像的应用。