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K975S高真空热蒸发镀膜仪
全部分类
K775X
k775x IMG_5430A
K775X SAMPLE CHANGE
K775X Specimen holder - accommodates 10 mm SEM stubs and TEM grids
K775X TOOL

K975S高真空热蒸发镀膜仪

产品型号:
K975S
K775X
k775x IMG_5430A
K775X SAMPLE CHANGE
K775X Specimen holder - accommodates 10 mm SEM stubs and TEM grids
K775X TOOL
产品描述

K975X/K975S高真空热蒸发镀膜仪

K975X涡轮泵高真空蒸镀仪是一个多用途镀膜系统,它具有灵活性和模块化扩展功能,以适应不同的样品制备。K975X可实现一系列制样技术,包括TEM的碳支持膜及覆形膜,碳/金属蒸镀、低角度投影(可选)和通过使用双源蒸发(可选)进行顺序镀层,溅射镀膜附件(可选)能适用于多种靶材。独特的抽屉式样品装载系统使得用户可方便地放入各种样品,铰链式顶盖结构也很容易到达工作腔室内的各个区域。

K975S基于K975X,但它具有特殊的和更大的样品装载门,可允许放入8英寸(200mm)晶圆或类似大样品镀碳。碳棒蒸发源直接安装在真空腔室顶盖板上,便于碳枪操作,并为大直径样品提供所需的蒸发源至样品的理想距离。与K975X不同,K975S没有安装金属蒸发源以及相应的底板安装立柱。

仪器特点:

•   全自动抽真空系统

•   样品尺寸可达140毫米见方或200毫米直径

•   独特设计的“anti-stick”碳棒蒸发枪

•   抽屉式样品装载系统

•   可选的蒸镀类型,具有四种蒸发设置

•   有节制的破真空排气控制

•   可选溅射附件

•   可选膜厚监测附件(FTM

推荐应用:

•   碳棒/碳绳蒸发

•   金属蒸发

•   扫描电镜光阑清洁(钼舟)

   TEM用碳支撑膜和覆形膜

•   低角度阴影

•   采用双源蒸发的连续镀层

   EDXWDSEBSD分析

•   可选的磁控溅射应用

对于SEM应用的机械泵抽真空的喷金喷碳仪,请参见SC7620Q150R Plus。对于FE-SEM应用所需的超细颗粒镀膜,建议采用高真空镀膜仪,请参见Q150T PlusQ150V PlusQ150GB;如需大腔室版本的镀膜系统,请参见:Q300T T PlusQ300T D PlusQ300T ES PlusK975X/K975S。这些产品专供科研用途。

 

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