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美国JC Nabity电子束曝光系统(NPGS纳米图形发生器)
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美国JC Nabity电子束曝光系统(NPGS纳米图形发生器)

自上世纪八十年代成立以来,美国JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的电子束光刻装置的研制,其研发的纳米图形发生器系统(Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统,简称NPGS,又称电子束微影系统)技术在全球同类系统中属于翘楚之作,世界各地越来越多的用户包括大学、科研机构及政府实验室在使用NPGS进行EBL研究工作.
产品型号:
c2-1
c2-2
c2-3
c2-4
产品描述

  基于SEM/FIB改装的NPGS V9.1电子束曝光系统

  1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等为基础,外加电子束控制系统,透过电脑界面控制电镜中电子束的矢量扫描,以直接刻写图形。

  2)NPGS系统兼具原SEM的观测功能。不影响SEM本身功能。

  3)功能强大、操作简便、使用灵活。

  4)NPGS和当今主流的SEM或FIB等均可配套。

  NPGS V9.0是一个可以控制扫描电镜电子束的软件程序。基于电镜的电子束曝光简单分为两部分:刻写设计和图形运行。刻写设计是通过NPGS随机提供的DesignCAD程序来做。此CAD程序已经过修改,增加了用于电子束曝光的命令。图形运行包括设定参数,用于NPGS计算图形上每个点的位置以及曝光时间。

  NPGS硬件板卡:定制的微影板卡是基于一个计算机工作站内部高速PCIe插槽安装的。主要特点是:

  1. 采用16位高速数模转换输出,X、Y双通道同时输出,同步扫描频率5 MHz,兼容6MHz,电子束驻留时间最小增量0.5纳秒,且所有频率下均能达到这个分辨率。

  2. 刻写扫描方式:矢量扫描方式和位图扫描方式。

  3. 集成的电子束闸控制输出。

  4. 图像获取采用集成的16位模数转换输入。

  5. 基于PCIe插槽,安装方便,运行可靠。

  电子束阻断器(束闸):电场型高速束闸。NPGS系统也支持无束闸运行。

  皮可安培计:基于SEM的电子束曝光系统需要一个皮安计,它可精确读出轰击样品的电子束束流。通常,需要从电镜载物台外接一个皮安计与样品电流输出相连。

  电镜束流:NPGS能可选连接控制法拉第杯和/或从皮可安培计读数,但大多数用户会采用手动控制的法拉第杯和皮可安培计。

  电镜参数及电动台控制:免费提供几款通用的电镜数字驱动程序及载物台驱动程序。如果有串口通讯协议,本系统支持任何外部控制。

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