K675X溅射镀膜仪可用于8英寸（200mm）晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台，可进行渐进的椭圆形转动，这样使得溅射沉积更均匀。
K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低电压，可得到薄而精细的涂层。
在K675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面，而用标准标即可。
多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前级为旋转机械泵。集成的仪器面板及即插即用的电子学最大的“up-time”，以及用户友好设计，保证了多学科领域的应用。
溅射参数可预设，包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动控制。它可用金作为溅射靶材，在需要预清洗或去除氧化层时，也可选用其它靶材，如铬靶。
闸门作为标准配置，这样在维持真空时即可进行溅射清洁和溅射循环。

● 配置三个靶面
● 涡轮分子泵抽气系统
● 全自动控制
● Peltier冷却溅射头
● 精细涂层（0.5nm Cr粒子）
● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置
● 薄膜沉积（典型为5nm）
● 直径为300mm腔室
● 可选双溅射头

● 可对大样品进行镀膜，如：8英寸晶圆
● 可溅射易氧化金属的精细颗粒，如：铬或铱
● 易操作
● 无需水冷却
● 超高分辨率，可复制涂层
● 适应各种样品
● 重复膜厚沉积
● 样品容易装载和卸载，包括8英寸晶圆
● 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层